Производственные процессы в ЕСУ при 7 нм и 5 нм имеют больше трудностей, чем предполагалось

Прогресс в процессах производства кремниевых чипов становится все более сложным, что можно увидеть на том же Intel, который испытал большие трудности в своем процессе при 10 нм, что привело к значительному увеличению срока службы. 14 нм. По сообщениям, другие плавильные заводы, такие как Globalfoundries и TSMC, испытывают больше трудностей, чем предполагалось, при переходе на 7-нм и 5-нм процессы, основанные на технологии EUV.

Больше проблем, чем ожидалось с процессами EUV на 7 нм и 5 нм

По мере того, как Intel, Globalfoundries и TSMC переходят к производственным процессам длиной менее 7 нм с использованием 250-миллиметровых пластин и использования технологии EUV, они сталкиваются с еще несколькими трудностями, чем ожидалось. Производительность при 7 нм с EUV - это еще не то, чего хотят производители, это то, что будет облагаться налогом еще больше при переходе на 5 нм с несколькими различными аномалиями, возникающими в тестовом производстве. Говорят, что исследователям требуются дни, чтобы найти дефекты на 7-нм и 5-нм чипах.

Мы рекомендуем прочитать наш пост о лучших процессорах на рынке (апрель 2018 года)

В критических размерах около 15 нм возникают различные проблемы с печатью, необходимые для изготовления 5 нм чипов, фактическое производство которых ожидается к 2020 году. Производитель машин EUV ASML готовит новую систему EUV следующего поколения Устранение этих обнаруженных дефектов печати, но ожидается, что эти системы не будут доступны до 2024 года.

Ко всему вышесказанному добавляется еще одна трудность, связанная с производственными процессами на основе EUV, лежащая в основе этого физика. Исследователи и инженеры до сих пор не понимают, какие именно взаимодействия актуальны и происходят при гравировке этих чрезвычайно тонких узоров при освещении EUV. Следовательно, следует ожидать возникновения непредвиденных проблем.

Шрифт Techpowerup